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                                HMDS預處理烘箱在光刻工藝中的重要作用

                                更新時間:2023-12-13   點擊次數:233次

                                HMDS預處理烘箱在光刻工藝中的重要作用為:增強光刻膠和襯底表面的粘附力。

                                光刻工藝中涂膠顯影流程包括HMDS(六甲基二硅氮烷,增粘劑)預處理、涂膠、前烘、曝光、后烘、顯影和堅膜。

                                HMDS預處理作用:

                                增強光刻膠和襯底表面的粘附力;

                                實現方法:浸泡、涂覆、氣相處理(即HMDS烘箱)等。

                                HMDS預處理烘箱

                                   JS-hmds90烘箱采用氣相沉積的方法涂布HMDS化合物。HMDS烘箱在高溫條件下,達到真空狀態后開始涂布工藝,涂布完成后排出尾氣,烘箱內部充入N2,達到常壓后方可開門。

                                溫度范圍:RT+10-250℃

                                真空度:≤1torr

                                控制儀表:人機界面,一鍵運行

                                儲液瓶:HMDS儲液量1000ml 

                                真空泵:無油渦旋真空泵

                                數據處理:多個工藝方案,可修改并記錄,使用數據可記錄

                                保護裝置: 低液位報警,HMDS藥液泄漏報&警,超溫保護并斷開加熱,超溫保護,漏電保護,過熱保護等




                                涂膠

                                作用:a.轉移掩模版圖形到襯底的介質b刻蝕工藝中保護襯底;實現方法:浸泡、旋轉、噴霧、刷膠等:

                                前烘

                                b.蒸發溶劑;作用:a.增強粘附性實現方法:真空熱板85~120C處理。

                                曝光

                                作用:將掩模版圖形轉移到襯底表面;實現方法:接觸式、接近式、投影式。

                                后烘

                                作用:a.減少駐波效應

                                        b.使光刻膠更易溶于顯影液:實現方法:熱板或烘箱等110-130C處理。

                                顯影作用:去除(未)曝光膠膜,保留圖形實現方法:浸泡、旋轉浸泡、旋轉噴霧

                                堅膜

                                作用:a.進一步減少駐波效應 

                                        b.進一步增強抗刻蝕能力;實現方法:熱板或堅膜烘箱等100-130C處理


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